勻膠機的勻膠轉速是勻膠過程中最重要的因素。基片的轉速不僅影響到作用于光刻膠的離心力，而且還關系到緊挨著基片表面空氣的*湍動和基片與空氣的相對運動速度。光刻膠的最終膜厚通常都由勻膠轉速所決定。尤其在高速旋轉這個階段。膜厚在很大程度上是作用于液體光刻膠上﹑方向朝基片邊緣的剪刀力與影響光刻膠粘度的干燥速率之間平衡的結果。隨著光刻膠中溶劑不斷揮發(fā)，粘度越來越大，直到基片旋轉作用于光刻膠的離心力不再能使光刻膠在基片表面移動。到這個點上，膠膜厚度不會隨勻膠時間延長而變薄。
 

　　勻膠機勻膠過程中基片的加速度也會對膠膜的性能產生影響。因為在基片旋轉的第一階段，光刻膠就開始干燥了。所以精確控制加速度很重要。在一些勻膠過程中，光刻膠中的溶劑就在勻膠過程開始的幾秒鐘內揮發(fā)掉了。在已經光刻有圖形的基片上勻膠，加速度對膠膜質量同樣起重要作用。在許多情況下，基片上已經由前面工序留下來的精細圖形。因此，在這樣的基片上穿越這些圖形均勻涂膠是重要的。勻膠過程總是對光刻膠產生離心力，而恰恰是加速度對光刻膠產生扭力，這個扭力使光刻膠在已有圖形的周圍散開，這樣就可能以另一種方式用光刻膠覆蓋基片上有圖形的部分。
 

　　勻膠機所有勻膠過程中光刻膠的干燥速度不僅取決于光刻膠的自身性質(如所用溶劑體系的揮發(fā)性)，而且還取決于勻膠過程中基片周圍的空氣狀況。一塊濕布在干燥有風的日子干得快，而在潮濕氣候條件下干得慢。光刻膠的干燥速度與此相似，也受周圍環(huán)境條件的影響。大家都知道，像空氣溫度、濕度這樣的因素對決定膠膜性質有重要的作用。勻膠的時候，減小基片上面的空氣的流動，以及因空氣流動引起的湍流，或者至少保持穩(wěn)定也是十分重要的。